扩散炉简介

扩散炉简介

      扩散炉是集成电路生产线前工序的重要工艺设备之一, 常用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件、光导纤维等行业中进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺,由四部分组成：控制柜、推舟净化台、电阻加热炉和气源柜。

扩散炉分类

      国内常用的扩散炉一般为：半导体扩散炉和太阳能扩散炉，其中半导体扩散炉按外形结构形式又分为：立式扩散炉和卧式扩散炉，按照控制方式不同可划分为：微控扩散炉和程控扩散炉，按照扩散炉的管数不同还可以分为：单管、双管、三管、四管扩散炉，由于我国的工业技术与发达国家仍有很大差距，目前大部分专业厂商生产的扩散炉所用关键件采用进口管件，从而保证成膜质量。

扩散炉的应用

　　扩散炉是集成电路生产线前工序的重要工艺设备之一，它的主要用途是对半导体进行掺杂，即在高温条件下将掺杂材料扩散入硅片，从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和分布，以便建立起不同的电特性区域。虽然某些工艺可以使用离子注入的方法进行掺杂，但是热扩散仍是最主要、最普遍的掺杂方法。硅的热氧化作用是使硅片表面在高温下与氧化剂发生反应，生长一层二氧化硅膜。氧化方法有干氧氧化和水汽氧化（含氢氧合成）两种，扩散炉是用这两种氧化方法制备氧化层的必备设备。扩散炉是半导体集成电路工艺的基础设备，它与半导体工艺互相依存、互相促进、共同发展。 目前，扩散炉主要品牌有，CT、TEL、THERMCO、ASM、BTU等。