加工定制 | 是 | 型号 | JFHK系列或OEM |
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别名 | 烤盘炉、MOCVD烤盘炉 | 适用范围 | 清除 MOCVD 承受器上的氮化镓和氮化铝 |
炉膛最高温度 | 1300℃ | 工作温度 | 600-1300℃ |
装载量 | 定制kg | 工作室尺寸 | 定制mm |
外形尺寸 | 定制mm | 规格 | 定制 |
外形形式 | 单管 | 最高温度 | 1300 |
清洗气体 | 氮气、氢气、氯化氢、氯气可选 | 是否厂家 | 北京厂家 |
是否定制 | 个性化专业定制 |
一、烤盘炉简介
烤盘炉、真空烤盘炉设备为 LED 制造行业的一种新型真空设备,与 MOCVD 设备配套使用,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2、H3、HCL、CL2可选)。主要用于有效清除 MOCVD 承受器(SiC 涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁处理,提高制品质量的目的。
二、烤盘炉用途
17、电源:三相五线380V、50Hz
北京晶伏华控电子设备有限公司可根据客户需求专业定制:真空炉、烤盘炉、MOCVD烤盘炉控制系统、扩散炉、退火炉、烧结炉、光亮炉、交换炉、焊接炉、氧化炉、气氛炉、升华炉、氢气炉、气氛炉、快速退火炉、LPCVD等各种工业、实验用热处理设备,厂家供货,专业团队定制,欢迎广大客户来电来函洽谈业务。