一、热处理真空炉概述 JFHK系列
热处理真空炉、
气氛炉、真空气氛炉、箱式气氛炉、箱式真空炉为我公司根据客户需求专业定制的热处理设备，主要用于：氮化硅镀膜、陶瓷电容器（MLCC）、金刚石、硬质合金等气氛烧结及金属的退火等工艺。本设备具有：自动化程度高、温度均匀、控制稳定、温区间温度扰动小、升降温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点，是理想的科研及生产设备。
二、热处理真空炉技术指标 1、外型形式：方箱式或管式，可移动式加热器
2、***高工作温度：900℃
3、常用工作温度：600-800℃
4、真空室有效尺寸：600（L）*600（D）*150（H）
5、加热元件：优质电阻丝
6、***大加热功率10KW，保温功率5KW
7、真空室材质：SUS310S耐热不锈钢
8、产品尺寸：Φ500mm*50mm铜线卷
9、料盒：共两层料盒，采用SUS310S不锈钢+石英板结构，即保证强度又不会污染产品
10、气路：氩气、氮气两路气体，从真空室底部进气，气路管件采用进口316L不锈钢管件
11、流量计：采用浮子流量计控制，氮气、氩气两路气体
12、真空系统：旋片真空泵
13、极限真空度：1Pa(7.5*10-3托)
14、***大充气压力：50KPa，系统具有恒压功能
15、真空计：热偶规+压敏电阻规，充氮气时使用热偶规，充氩气时使用压敏电阻规
16、真空测量量程：1Pa—50KPa
17、温控系统：日本岛电SRS10温控仪
18、控制方式：移项触发
19、***大升温速率：15℃/Min，升温范围：1-15℃/Min可调；
20、***大降温速率：10℃/Min，开启风冷后1小时左右由500度降至100度以下
21、冷却方式：水冷+风冷
22、操作方式：手、自动两种操作方式
23、保护：系统设有超温保护、缺水保护、真空系统阀门互锁保护
24、动力要求：供电电源：AC380V±10%、50Hz
总功率：13KW、三相五线制
工艺气体压力：2～4Kg/cm3
冷却水：2～4Kg/cm3 流量≤5m3/h 进水温度≤15℃
北京晶伏华控电子设备有限公司可根据客户需求专业化定制各种：真空炉、热处理真空炉、真空烧结炉、气氛炉、真空气氛炉、热处理气氛炉、气氛保护箱式炉、热处理气氛炉、箱式气氛炉、保护气氛炉、高温气氛炉、气氛保护炉、加热气氛炉、箱式真空气氛炉等各种真空气氛保护热处理设备，欢迎广大客户来电来函。
