一、真空退火炉简介 JFHK系列真空退火炉用于6英寸wafer退火工艺,设备可抽真空,并通氢氮混合气,防止wafer氧化。本设备具有:关键部件进口、自动化程度高、温度均匀、控制稳定等特点。
二、真空退火炉技术指标(全部指标可定制) 1、外型形式:单管卧式
2、设备外形尺寸:3800(L)*1000(W)*1600(H)
3、额定工作温度:800℃
4、恒温区长度:500mm(单次装载100片6英寸wafer)
5、恒温区精度:±1℃
6、额定升温速率:15℃/min
7、额定降温速率:100℃/min
8、热偶:S分度
9、温度控制方式:spike+profile
10、真空室材质:高纯石英
11、极限真空度:1Pa
12、加热元件:瑞典康泰尔电阻丝
13、气路:三路,一路N2,一路N2/H2混合气,一路N2
14、取送片方式:自动推拉系统
15、工艺运行方式:手、自动两种运行方式
16、报警及保护:超温报警及保护、断偶报警及保护、真空系统阀门互锁保护、缺水报警及保护
北京晶伏华控电子设备有限公司可根据客户需求定做各种:
退火炉、真空烧结炉、真空气氛炉、真空退火炉、立式真空炉、立式真空退火炉、全自动退火炉、非晶退火炉、快速退火炉、连续式退火炉、非晶带材退火炉等各种实验室、工业用热处理设备
,欢迎广大客户来电来函洽谈业务。